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Colloque
Les revêtements de diamant polycristallin peuvent être produits dans les plasmas thermiques par les techniques CVD. L'objectif de ce projet est de mieux comprendre les mécanismes de croissance des couches minces de diamant dans les systèmes de déposition par plasma inductif. La chimie du plasma dans la couche limite à la surface du substrat joue un rôle fondamental dans la formation du film de diamant. Les mécanismes de croissance et de nucléation sont fortement influencés par l'épaisseur de la couche limite ainsi que par les propriétés du plasma. Un modèle mathématique a été développé dans le but d'estimer cette épaisseur …
