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Colloque
La photosensibilité est une propriété couramment utilisée dans la fabrication de dispositifs optiques tels que filtres, coupleurs et miroirs de cavité laser. Actuellement, l'implantation ionique est la seule technique capable de créer des guides d'onde planaires photosensibles dans la silice pure non-dopée. Dans ce travail, nous avons étudié les variations d'indice de réfraction produits par un rayonement laser à 193 nm (laser Excimer ArF) dans la silice implantée avec des ions de silicium de haute énergie (5 MeV). Les mesures d'absorption optique entre 3 eV (400 nm) et 8 eV (155 nm) présentent plusieurs bandes d'absorption bien définies et montrent …
