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Photolyse du sulfure de méthyle et de vinyle en phase gazeuse
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La photolyse du sulfure de méthyle et de vinyle à 2537 donne des produits dont la formation s'explique par les deux scissions primaires suivantes: CH3-S-CH=CH2 + hν → CH3. + .S-CH=CH2 → CH3S. + .CH=CH2. L'addition de méthanethiol (~10 à 15%) permet de doser les radicaux méthyles et vinylés formés: R. + CH3SH → RH + CH3S. La somme des rendements quantiques en méthane et en éthylène tend alors vers 1 pour des temps de radiation courts.

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