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Oxydes nanocristallins pour la réaction d'évolution de l'hydrogène
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Depuis la découverte des matériaux nanophasés par le groupe de H. Gleiter il y a environ 10 ans, ce secteur de la science des matériaux n'a cessé de croître. À l'origine, ces matériaux étaient principalement synthétisés par condensation d'une phase vapeur. Aujourd'hui, une panoplie d'autres techniques, telles que le broyage mécanique intense, la précipitation en solution aqueuse et la trempe rapide, sont couramment employées pour eux dont la microstructure se définie à l'échelle nanométrique. Après une brève introduction sur ces matériaux, leurs propriétés et les méthodes de fabrication, nous décrirons de nouveaux alliages nanocristallins utilisés comme électrode pour le dégagement …

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Caractérisation des membranes de carbure de Si-Ticium pour les masques de la lithographie à rayons-X
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Dans le cadre du développement de la lithographie à rayons-X, nous avons développé, à l'INRS Énergie, des masques en vue de cette application en utilisant le procédé PECVD. Étant données ses propriétés mécaniques et optiques, le SiC est un très bon candidat comme matériau pour les membranes à rayons-X. Nous nous intéressons plus particulièrement à l'étude de recuit thermique rapide (RTA) ainsi qu'à l'influence de ces paramètres de fabrication sur les propriétés du carbure de silicium. Les méthodes de caractérisation employées sont entre autres la spectroscopie photoélectron par rayons-X (XPS) ainsi que la spectroscopie infrarouge (FTIR).

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Caractérisation des membranes de carbure de Si-Ticium pour les masques de la lithographie à rayons-X
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Dans le cadre du développement de la lithographie à rayons-X, nous avons développé, à l'INRS Énergie, des masques en vue de cette application en utilisant le procédé PECVD. Étant données ses propriétés mécaniques et optiques, le SiC est un très bon candidat comme matériau pour les membranes à rayons-X. Nous nous intéressons plus particulièrement à l'étude de recuit thermique rapide (RTA) ainsi qu'à l'influence de ces paramètres de fabrication sur les propriétés du carbure de silicium. Les méthodes de caractérisation employées sont entre autres la spectroscopie photoélectron par rayons-X (XPS) ainsi que la spectroscopie infrarouge (FTIR).

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Caractérisation des membranes de carbure de Si-Ticium pour les masques de la lithographie à rayons-X
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Dans le cadre du développement de la lithographie à rayons-X, nous avons développé, à l'INRS Énergie, des masques en vue de cette application en utilisant le procédé PECVD. Étant données ses propriétés mécaniques et optiques, le SiC est un très bon candidat comme matériau pour les membranes à rayons-X. Nous nous intéressons plus particulièrement à l'étude de recuit thermique rapide (RTA) ainsi qu'à l'influence de ces paramètres de fabrication sur les propriétés du carbure de silicium. Les méthodes de caractérisation employées sont entre autres la spectroscopie photoélectron par rayons-X (XPS) ainsi que la spectroscopie infrarouge (FTIR).

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Caractérisation des membranes de carbure de Si-Ticium pour les masques de la lithographie à rayons-X
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Dans le cadre du développement de la lithographie à rayons-X, nous avons développé, à l'INRS Énergie, des masques en vue de cette application en utilisant le procédé PECVD. Étant données ses propriétés mécaniques et optiques, le SiC est un très bon candidat comme matériau pour les membranes à rayons-X. Nous nous intéressons plus particulièrement à l'étude de recuit thermique rapide (RTA) ainsi qu'à l'influence de ces paramètres de fabrication sur les propriétés du carbure de silicium. Les méthodes de caractérisation employées sont entre autres la spectroscopie photoélectron par rayons-X (XPS) ainsi que la spectroscopie infrarouge (FTIR).

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Caractérisation des membranes de carbure de Si-Ticium pour les masques de la lithographie à rayons-X
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Dans le cadre du développement de la lithographie à rayons-X, nous avons développé, à l'INRS Énergie, des masques en vue de cette application en utilisant le procédé PECVD. Étant données ses propriétés mécaniques et optiques, le SiC est un très bon candidat comme matériau pour les membranes à rayons-X. Nous nous intéressons plus particulièrement à l'étude de recuit thermique rapide (RTA) ainsi qu'à l'influence de ces paramètres de fabrication sur les propriétés du carbure de silicium. Les méthodes de caractérisation employées sont entre autres la spectroscopie photoélectron par rayons-X (XPS) ainsi que la spectroscopie infrarouge (FTIR).

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Caractérisation des membranes de carbure de Si-Ticium pour les masques de la lithographie à rayons-X
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Dans le cadre du développement de la lithographie à rayons-X, nous avons développé, à l'INRS Énergie, des masques en vue de cette application en utilisant le procédé PECVD. Étant données ses propriétés mécaniques et optiques, le SiC est un très bon candidat comme matériau pour les membranes à rayons-X. Nous nous intéressons plus particulièrement à l'étude de recuit thermique rapide (RTA) ainsi qu'à l'influence de ces paramètres de fabrication sur les propriétés du carbure de silicium. Les méthodes de caractérisation employées sont entre autres la spectroscopie photoélectron par rayons-X (XPS) ainsi que la spectroscopie infrarouge (FTIR).

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Membranes de carbure de silicium produites par ablation laser pour les masques de lithographie à rayons-X
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La technique de l'ablation laser est de plus en plus utilisée pour la fabrication de films minces de haute qualité. Contrairement aux autres méthodes de dépôt utilisées pour la fabrication de membranes pour masques X (PECVD, CVD), l'ablation laser s'effectue à basse température et produit des films non hydrogénés. Nous avons réussi à produire des membranes de SiC de 2.5 cm de diamètre en irradiant une cible de ce matériau à l'aide d'un laser KrF (λ = 249 nm). La variation du taux de dépôt, l'uniformité et la qualité des films produits en fonction des paramètres du laser sont présentés …

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Développement de membranes de carbure de silicium pour les masques de la lithographie à rayons X
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Dans le cadre du développement de lithographie par rayons X, nous avons entrepris de développer, à l'INRS-Énergie des masques en vue de cette application. Étant donné ses propriétés mécaniques et optiques, le carbure de silicium est un très bon candidat comme matériau pour les membranes de masques à rayons X. Les couches minces de SiC sont obtenues en utilisant le procédé PECVD. Nous nous intéressons particulièrement à l'étude de l'influence des paramètres de la chimie en phase vapeur sur les propriétés mécaniques et optiques des membranes de SiC.

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